点击图片查看原图
一、设备基本原理与特点
1. 基本原理
真空钼带炉是用钼带作发热元件的真空电阻炉，在抽真空状态下， 钼带电阻产生热量，使炉腔内产生高温，通过热辐射传导到材料上，适用于科研、军g单位对难熔合金如钨、钼及其合金的粉末成型烧结。主要应用于陶瓷、硬质合金、复合材料等在真空或保护气氛中高温烧结，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵j属材料的除气处理。
2.设备特点
1) 采用卧式、侧开门结构：装、卸物料精度高，操作方便；
2) 升温快：升温速率1~10℃/分钟（≤1600℃），升温速率1~5℃/分钟（＞1600℃）；
3) 温度均匀性好：平均温度均匀性为±5℃（5点测温，恒温区1000℃保温1h后检测）；
5) 安全性能好：采用HMI+PLC+PID程序控制，安全可靠；
二、主要技术参数
|
编号 |
V2MO16 |
|
产品型号 |
VHSmo-20/20/30-1600 |
|
最高设计温度（ ℃ ） |
1600 |
|
加热元件 |
高纯钼带 |
|
加热功率（kW） |
45 |
|
冷态极限真空度（ Pa ） |
6.7x10-3Pa（空炉、冷态、经净化） |
|
测温元件 |
钨铼热电偶 |
|
升温速率 |
1~20℃/min |
|
温度均匀性 |
±5℃（5点测温，恒温区1000℃保温1h后检测） |
|
炉膛尺寸（mm） |
200x200x300（WxHxD） |
|
可充气氛 |
N2/Ar一路 |
|
设备外形尺寸（ mm ） |
1425x1550x1850mm(DxWxH) |
https://www.chem17.com/st142087/product_38144700.html