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离子体去胶机VP-RS8采用真空不锈钢腔体等离子清洗装置技术，真空腔体不锈钢材质，容积8L，两路工作气体，中英文触摸屏控制，等离子处理结束自动泄压，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、芯片去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
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